PB80
要約情報
レーザー電源は、最初にパルスキセノンランプに点火し、レーザー電源を介してキセノンランプをパルス放電し、特定の周波数と特定のパルス幅の光波を形成します。光波は、コンデンサーキャビティを介してNd3 +:YAGレーザー結晶に放射され、Nd3 +:YAGレーザー結晶を励起して発光します。 レーザーキャビティが共振した後、波長1064nmのパルスレーザーが放射されます。パルスレーザーは、PLCまたは産業用PCの制御下で、ビーム膨張、反射(または光ファイバを介して送信)され、溶接されるワークピースに焦点を合わせます
ブランチ分類:
YAG溶接機
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特徴
1.アスペクト比が高く、溶接幅が小さく、熱の影響を受けるゾーンが小さく、変形が小さく、溶接速度が速い。 2.溶接シームは滑らかで美しく、溶接後の処理や簡単な処理手順は必要ありません。 3.溶接シームは高品質で多孔性がないため、母材の不純物を減らして最適化でき、溶接後に構造を洗練でき、溶接シームの強度と靭性は少なくとも母材と同等かそれ以上です。 4.正確に制御でき、集束光点が小さく、高精度に配置でき、自動化が容易です。 5.特定の異種材料間の溶接を実現できます。 6.スポット溶接、バット溶接、スタックシール溶接などを実現できます。
アプリケーション:
PB80には、優れたビーム、ファインスポット、強力な貫通能力、柔軟な設置、およびリモートコントロール操作の利点があります。 低エネルギースポット溶接、低平均電力、高速スポット溶接アプリケーションが特に適しています。高速スポット溶接の特性を最大化するために、ガルバノメーター高速走査溶接テーブルと一緒に使用することをお勧めします。 現在では、携帯電話のシェル、携帯電話のシールド層、液晶ディスプレイのソフトPCB溶接、光ファイバーコネクタ、マイクロエレクトロニクスコンポーネント、医療機器などの精密部品の溶接に広く使用されています。
アプリケーション:
PB80には、優れたビーム、ファインスポット、強力な貫通能力、柔軟な設置、およびリモートコントロール操作の利点があります。 低エネルギースポット溶接、低平均電力、高速スポット溶接アプリケーションが特に適しています。高速スポット溶接の特性を最大化するために、ガルバノメーター高速走査溶接テーブルと一緒に使用することをお勧めします。 現在では、携帯電話のシェル、携帯電話のシールド層、液晶ディスプレイのソフトPCB溶接、光ファイバーコネクタ、マイクロエレクトロニクスコンポーネント、医療機器などの精密部品の溶接に広く使用されています。
応用:
レーザーモデル | PB80 |
レーザータイプ | YAG |
レーザー波長 | 1064nm |
平均レーザー出力 | 80W |
レーザーピークパワー | 5kW (9kWオプション) |
最大レーザーエネルギー | 50J |
パルス幅 | ≤50ms |
パルス周波数 | ≤100Hz |
波形数量 | 50 组 |
光纤输波の数 | 標準の1チャネル、最大6チャネル |
分光法 | エネルギー分割または時間分割 |
ファイバーコア径 | 0.4mm |
閉ループフィードバック制御方式 | レーザーパワーフィードバック |
照準と位置決め方法 | 赤色光インジケータ(CCDオプション) |
冷却方法 | 内蔵空冷 |
ホストの電力消費 | 5kW |
電力需要 | 220V±10%/50Hz/25A |
重量 | 350kg |
寸法 | 1210x550x1085mm |
サンプル